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PLD法制备Cu膜生长的计算机模拟与实验
引用本文:崔海涛,王永仓,段章山.PLD法制备Cu膜生长的计算机模拟与实验[J].微计算机信息,2007,23(31):197-198,289.
作者姓名:崔海涛  王永仓  段章山
作者单位:空军工程大学理学院,陕西西安,710051
摘    要:介绍了脉冲激光薄膜沉积技(PLD)的原理,建立了PLD成膜过程初期生长的物理模型,并运用动力学蒙特卡罗方法对基于硅衬底的铜膜PLD生长进行了计算机模拟,得到生长形态图及剖面图,在相同的参数下做PLD实验,将所得原子力测试图与模拟进行了比较,结果相近。

关 键 词:脉冲激光薄膜沉积  计算机模拟  动力学蒙特卡罗方法  薄膜生长
文章编号:1008-0570(2007)11-1-0197-02
修稿时间:2007-08-132007-10-15

Simulation and experiment of the growing thin film produced by the pulsed laser deposition technique
CUI HAITAO,WANG YONGCANG,DUAN ZHANGSHAN.Simulation and experiment of the growing thin film produced by the pulsed laser deposition technique[J].Control & Automation,2007,23(31):197-198,289.
Authors:CUI HAITAO  WANG YONGCANG  DUAN ZHANGSHAN
Abstract:
Keywords:Pulsed Laser Deposition  Kinetic Monte Carlo  growth of thin films
本文献已被 维普 万方数据 等数据库收录!
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