| 基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计 |
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| 引用本文： | 杨硕,高峰,李素华,钟立华.基于PLC的等离子体干法刻蚀设备控制系统的设计[J].工业控制计算机,2015(1):13-15,18. |
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| 作者姓名： | 杨硕 高峰 李素华 钟立华 |
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| 作者单位： | 1. 上海交通大学自动化系，上海 200030; 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司，江苏 昆山 215300
2. 昆山工研院新型平板显示技术中心有限公司,江苏 昆山,215300
3. 昆山国显光电有限公司,江苏 昆山,215300 |
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| 摘 要： | 针对大型等离子体干法刻蚀生产设备的工艺特点,根据公司的生产实际需求,对原有损坏机台控制系统进行了重新改造设计。基于真空系统、工艺气体混合调节系统、射频微波放电系统、传动控制系统和终点检测系统等各子系统的控制难点及实现过程,设计了以三菱Q06 PLC为核心和In Touch 10.0为上位机监控软件的等离子体干法刻蚀设备控制系统。在In Touch 10.0平台上,搭建了等离子体干法刻蚀系统的监控界面,通过上位机处理大量生产制程数据和归档重要配方参数,实现生产工艺流程各个环节的实时监控、设备工作运行状态的参数显示和系统的故障报警等功能。
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| 关 键 词： | 等离子体干法刻蚀(Plasma Dry Etching) PLC(Programmable Logic Controller) IPC(Industry Personal Computer) |
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