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图形化SOI LDMOS功率器件的性能分析
引用本文:程新红,宋朝瑞,俞跃辉,赵天麟,李树良.图形化SOI LDMOS功率器件的性能分析[J].微处理机,2005,26(4):1-2.
作者姓名:程新红  宋朝瑞  俞跃辉  赵天麟  李树良
作者单位:1. 温州大学物理与电子信息学院,温州,325000
2. 中科院上海微系统与信息技术研究,上海,200050
3. 东北微电子研究所,沈阳,110032
摘    要:本文提出了一种在沟道下方埋氧层中开硅窗口的图形化SOI LDMOSFET新结构.工艺和性能分析表明,它可抑制SOI结构的浮体效应和自加热效应,具有低的泄漏电流,以及高的电流驱动能力.这种结构具有提高SOI功率器件性能和稳定性的开发潜力.

关 键 词:图形化SOI  浮体效应  自加热效应
文章编号:1002-2279(2005)04-0001-02
修稿时间:2004年10月10

Performance analysis of a patterned- SOI LDMOS power amplifier
CHENG Xin-hong,SONG Zhao-rui,YU Yue-hui,et al.Performance analysis of a patterned- SOI LDMOS power amplifier[J].Microprocessors,2005,26(4):1-2.
Authors:CHENG Xin-hong  SONG Zhao-rui  YU Yue-hui  
Affiliation:CHENG Xin-hong~1,SONG Zhao-rui~2,YU Yue-hui~2,et al
Abstract:A novel patterned-SOI (patterned-Silicon-On-Insulator) LDMOS structure with a silicon window beneath the P well is proposed and simulated numerically. In comparison to the partially-depleted SOI counterpart, the floating body effect and self-heating effect are distinctly suppressed. Furthermore, the advantage of SOI structure's low leakage current do not degrade, and the current driving capability is high. The proposed structure will be a promising choice to improve the performance and stability of SOI power devices.
Keywords:LDMOSFET
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