| 磁场下镍电沉积层织构及表面形貌 |
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| 引用本文： | 刘志勇,孙孟良,范峰,彭麟,陈昌兆,高波,应利良,鲁玉明,蔡传兵.磁场下镍电沉积层织构及表面形貌[J].功能材料,2010,41(8). |
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| 作者姓名： | 刘志勇 孙孟良 范峰 彭麟 陈昌兆 高波 应利良 鲁玉明 蔡传兵 |
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| 作者单位： | 上海大学,物理系,上海,200444 |
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| 基金项目： | 国家自然科学青年基金 |
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| 摘 要： | 研究了磁场作用下电沉积Ni金属膜的生长过程,磁场与电极表面夹角取35°。测试结果表明电流密度、基底织构和磁场对薄膜的织构和表面形貌均具有重要影响。随着电流密度的增加,薄膜的面外织构由(111)为主变为(200)为主,面内织构显著改善;晶粒尺寸随着电流密度的增加显著增大。在电流密度较小时,磁场的作用比较显著,使得面外(111)晶面取向受到抑制,(200)取向得到增强,面内织构也有一定的改善。同时,磁场使晶粒变小,形状更加规则,整体也更均匀。还对磁场、电流和基底的作用机制进行了分析。
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| 关 键 词： | 电沉积 镍金属膜 织构 磁流体动力学效应 |
Surface morphology and texture of nickel film electrodeposited under magnetic field |
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| LIU Zhi-yong,SUN Meng-liang,FAN Feng,PENG Lin,CHEN Chang-zhao,GAO Bo,YING Li-liang,LU Yu-ming,CAI Chuan-bing.Surface morphology and texture of nickel film electrodeposited under magnetic field[J].Journal of Functional Materials,2010,41(8). |
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| Authors: | LIU Zhi-yong SUN Meng-liang FAN Feng PENG Lin CHEN Chang-zhao GAO Bo YING Li-liang LU Yu-ming CAI Chuan-bing |
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