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高密度与低电阻率ZnO:Al靶材的制备及缺陷分析
引用本文:许积文,王华,任明放,杨玲.高密度与低电阻率ZnO:Al靶材的制备及缺陷分析[J].功能材料,2007,38(9):1457-1459,1463.
作者姓名:许积文  王华  任明放  杨玲
作者单位:桂林电子科技大学,信息材料科学与工程系,广西,桂林,541004
基金项目:广西高校百名中青年学科带头人项目
摘    要:以纳米量级的ZnO和Al2O3粉体为原料,通过湿式球磨得到了混合粉体,再经过模压成型与常压烧结工艺即可获得致密度超过95%的ZnO:Al陶瓷靶材,其电阻率可达10-2Ω·cm数量级.高致密度的原因在于纳米粉体具有大的比表面积和粒子数,烧结均匀,气孔较少.低电阻率在于Al3 对Zn2 替代产生的自由电子.同时对靶材中的黑点进行了分析,EDS显示其不仅存在N元素,而且Al含量与致密度比正常区域低,其原因与粉体颗粒的均匀性有关.

关 键 词:ZAO靶材  纳米粉体  致密度  电阻率  黑点
文章编号:1001-9731(2007)09-1457-03
修稿时间:2007-02-082007-06-07

Preparation of higher dense and low resistive ZnO:Al target and analysis of defect
XU Ji-wen,WANG Hua,REN Ming-fang,Yang Ling.Preparation of higher dense and low resistive ZnO:Al target and analysis of defect[J].Journal of Functional Materials,2007,38(9):1457-1459,1463.
Authors:XU Ji-wen  WANG Hua  REN Ming-fang  Yang Ling
Affiliation:Department of Information Material Science and Engineeri.ng,Guilin University of Electronic Technology, Guilin 541004,China
Abstract:
Keywords:ZAO target  nanoscale powder  density  resistivity  dark spot
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