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| 低掺铝TiN薄膜的XPS,XRD分析研究 | |
| 引用本文： | 辛煜,宁兆元.低掺铝TiN薄膜的XPS,XRD分析研究[J].功能材料,1996,27(4):377-380. |
| 作者姓名： | 辛煜 宁兆元 |
| 作者单位： | 苏州大学薄膜材料实验室，苏州大学测试中心 |
| 摘 要： | 本文用多弧离子镀方法制备了Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ（ｘ＜０．３）薄膜，并且运用俄歇电子能谱（ＡＥＳ），Ｘ射线光电子能谱（ＸＰＳ），Ｘ射线衍射（ＸＲＤ）和扫描电子显微镜（ＳＥＭ）等技术对Ｔｉ１－ｘＡｌｘＮ进行测试和分析。结果表明：膜层中除含Ａｌ、Ｔｉ、Ｎ元素外，还出现了一定量的氧；薄膜呈现了（１１１）、（２２２）等晶面的择优取向；薄膜与基底间的附着力较好。 |
| 关 键 词： | 薄膜 择优取向 XPS XRD 钛铝薄膜 |
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