| AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积 |
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| 引用本文： | 丁艳芳,门传玲,陈韬,朱自强,林成鲁.AlN薄膜的KrF准分子脉冲激光沉积[J].功能材料,2005,36(12):1831-1833. |
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| 作者姓名： | 丁艳芳 门传玲 陈韬 朱自强 林成鲁 |
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| 作者单位： | 1. 华东师范大学,信息学院,上海,200062
2. 中国科学院上海微系统与信息技术研究所,上海,200050 |
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| 基金项目： | 国家重点基础研究发展计划(973计划)资助项目(G2000036506) |
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| 摘 要： | 研究了采用脉冲激光沉积(PLD)技术在Si(100)衬底上AlN薄膜的制备及其性质。结果表明,衬底温度从室温到800℃的范围内,所得到的AlN薄膜为(002)择优取向的纤锌矿结构。随着衬底温度的升高,AlN薄膜从纳米晶结构转为多晶结构,同时表面微粗糙度上升。AlN晶粒呈柱状生长机制。
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| 关 键 词： | AlN薄膜 KrF准分子脉冲激光沉积 微结构 |
| 文章编号： | 1001-9731(2005)12-1831-03 |
| 修稿时间： | 2004年12月6日 |
Pulsed KrF excimer laser deposition of AlN thin films |
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| DING Yan-fang,MEN Chuan-ling,CHEN Tao,ZHU Zhi-qiang,LIN Cheng-lu.Pulsed KrF excimer laser deposition of AlN thin films[J].Journal of Functional Materials,2005,36(12):1831-1833. |
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| Authors: | DING Yan-fang MEN Chuan-ling CHEN Tao ZHU Zhi-qiang LIN Cheng-lu |
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| Affiliation: | DING Yan-fang1,MEN Chuan-ling2,CHEN Tao1,ZHU Zhi-qiang1,LIN Cheng-lu2 |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | AlN thin film pulsed KrF laser deposition microstructure |
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