多场耦合参数对电沉积Ni-TiN纳米镀层性能的影响 |
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引用本文: | 夏法锋,赵旭东,马廉洁.多场耦合参数对电沉积Ni-TiN纳米镀层性能的影响[J].功能材料,2019,50(9). |
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作者姓名: | 夏法锋 赵旭东 马廉洁 |
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作者单位: | 东北石油大学 机械科学与工程学院,黑龙江 大庆,163318;东北大学 秦皇岛分校 控制工程学院,河北 秦皇岛,066004 |
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基金项目: | 国家自然科学基金;黑龙江省自然科学基金 |
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摘 要: | 利用多场耦合电沉积技术制备Ni-TiN纳米镀层,获得良好的高硬度、耐磨性好的复合镀层材料。研究多场耦合沉积的主要参数阴极电流密度、超声波功率和磁场强度对显微硬度、耐磨性的影响。结果表明,随镀液中磁场强度、阴极电流密度和超声波功率的增加,Ni-TiN纳米镀层中的显微硬度呈先增加后减小的变化趋势,而镀层的磨损量与之相反。多场耦合电沉积的最优工艺参数组合为阴极电流密度1.5 A/dm~2、超声波功率200 W、磁场强度0.6 T。在最佳工艺参数下制备的Ni-TiN纳米镀层表面粗糙程度较小,晶粒较细致,组织均匀度较好。
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关 键 词: | 多场耦合 电沉积 Ni-TiN纳米镀层 参数 |
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