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| 高速沉积非晶硅氢合金薄膜的研究 | |
| 引用本文： | 林璇英,林揆训.高速沉积非晶硅氢合金薄膜的研究[J].功能材料,1992,23(5):280-283. |
| 作者姓名： | 林璇英 林揆训 |
| 作者单位： | 汕头大学物理系，汕头大学物理系，汕头大学物理系，汕头大学物理系，汕头大学物理系，汕头大学物理系，汕头大学物理系 汕头 515063 本刊通讯编委，汕头 515063，汕头 515063，汕头 515063，汕头 515063，汕头 515063，汕头 515063 |
| 摘 要： | 在一个等离子体化学气相沉积(PCVD)系统中,用射频辉光放电分解纯硅烷,通过控制和选择工艺条件,可以制备速率大于1.0nm/s,光敏性大于10~5的优质非晶硅氢合金薄膜。 |
| 关 键 词： | 非晶硅氢合金 沉积速率 光敏性 |
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