高速沉积非晶硅氢合金薄膜的研究 |
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作者姓名: | 林璇英 林揆训 |
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作者单位: | 汕头大学物理系,汕头大学物理系,汕头大学物理系,汕头大学物理系,汕头大学物理系,汕头大学物理系,汕头大学物理系 汕头 515063 本刊通讯编委,汕头 515063,汕头 515063,汕头 515063,汕头 515063,汕头 515063,汕头 515063 |
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摘 要: | 在一个等离子体化学气相沉积(PCVD)系统中,用射频辉光放电分解纯硅烷,通过控制和选择工艺条件,可以制备速率大于1.0nm/s,光敏性大于10~5的优质非晶硅氢合金薄膜。
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关 键 词: | 非晶硅氢合金 沉积速率 光敏性 |
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