首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

ECR-CVD沉积a-C:F薄膜
引用本文:康健,叶超,辛煜,程珊华,宁兆元.ECR-CVD沉积a-C:F薄膜[J].功能材料,2001,32(5):490-491.
作者姓名:康健  叶超  辛煜  程珊华  宁兆元
作者单位:苏州大学物理系,
摘    要:采用电子回旋共振等离子体化学气相沉积(ECR-CVD)技术,用苯和三氟甲烷混合气体,制备了氟化非晶碳膜(a-C:F)。用红外吸收光谱(FTIR)和X射线光电子能谱(XPS)分析了a-C:F薄膜的结构。FTIR结果表明,氟主要以C-F,CF2的形式成键形成a-C:F薄膜,XPS结果进一步证明a-C:F膜中存在C-F,CF2键,获得了与FTIR相一致的结果。

关 键 词:a-C:F薄膜  ECR-CVD  键结合  氟化非晶碳膜
文章编号:1001-9731(2001)05-0490-02
修稿时间:2000年6月7日

Fluorinated amorphous carbon thin films grown by ECR-CVD
KANG Jian,YE Chao,XIN Yu,CHEN Shan hua,NING Zhao yuan.Fluorinated amorphous carbon thin films grown by ECR-CVD[J].Journal of Functional Materials,2001,32(5):490-491.
Authors:KANG Jian  YE Chao  XIN Yu  CHEN Shan hua  NING Zhao yuan
Abstract:
Keywords:ECR-CVD
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号