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用气液固相互反应方法生长线状硅晶研究
引用本文:陆阳,施毅.用气液固相互反应方法生长线状硅晶研究[J].功能材料,1999,30(1):31-32.
作者姓名:陆阳  施毅
作者单位:南京大学物理系!江苏南京,210093,南京大学物理系!江苏南京,210093,南京大学物理系!江苏南京,210093,南京大学物理系!江苏南京,210093,南京大学物理系!江苏南京,210093,南京大学物理系!江苏南京,210093,南京大学物理系!江苏南京,210093
摘    要:以SiH4为生长气源,利用VLS(气相-液相-固相)互反应生长机制,在RT-CVD生长设备上通过向(111)硅衬底表面引入Au,生长出长达数个微米而直径小于1μm的垂直于衬底表面的线状晶体。对生长出的线状晶体作了扫描电镜观察,并分析讨论了生长的异常现象。

关 键 词:VLS生长机制  金硅合金  线状硅晶  真空微电子技术

Research on Silicon Crystal Wires Growth by Vapor-Liquid-Solid Reaction Method
LU Yang, SHI Yi, LIU Jianlin, WANG Feng, GU Shulin, ZHU Shunmin, ZHENG Youdou.Research on Silicon Crystal Wires Growth by Vapor-Liquid-Solid Reaction Method[J].Journal of Functional Materials,1999,30(1):31-32.
Authors:LU Yang  SHI Yi  LIU Jianlin  WANG Feng  GU Shulin  ZHU Shunmin  ZHENG Youdou
Abstract:
Keywords:VLS mechanism  Au-Si eutectic  crystal wires  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
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