| Si衬底上La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3双层结构研究 |
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| 引用本文： | 杜永胜 王波 许仕龙,于敦波 李彤 严辉 张深根.Si衬底上La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3双层结构研究[J].功能材料,2004,35(Z1):620-622. |
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| 作者姓名： | 杜永胜 王波 许仕龙 于敦波 李彤 严辉 张深根 |
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| 作者单位： | 杜永胜（北京工业大学,材料学院薄膜材料与技术研究室,北京,100022）;王波（北京工业大学,材料学院薄膜材料与技术研究室,北京,100022）;许仕龙（北京工业大学,材料学院薄膜材料与技术研究室,北京,100022）;于敦波（北京有色金属研究总院,北京,100088）;李彤（北京工业大学,材料学院薄膜材料与技术研究室,北京,100022）;严辉（北京工业大学,材料学院薄膜材料与技术研究室,北京,100022）;张深根（北京有色金属研究总院,北京,100088） |
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| 基金项目： | 北京市自然科学基金重点项目(G2021003);科技部重大基础研究前期研究专项项目(G2002CCC01300) |
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| 摘 要： | 利用磁控溅射方法在Si(100)衬底上首先生长SrMnO3(SMO)作为缓冲层,再沉积La0.8Sr0.2MnO3(LSMO)薄膜,得到(110)面择优生长的LSMO/SMO双层结构.利用X射线衍射仪分析了SMO缓冲层的结构特征对LSMO薄膜择优取向生长的影响;利用Rutherford背散射(RBS)分析了LSMO/SMO间的界面情况.结果表明以SMO作为单一缓冲层时,不仅可以实现LSMO薄膜在Si(100)衬底上的(110)面的择优生长,而且LSMO/SMO的界面扩散现象也不明显.
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| 关 键 词： | LSMO薄膜 SMO缓冲层 择优取向生长 界面扩散 |
| 文章编号： | 1001-9731(2004)增刊-0620-03 |
| 修稿时间： | 2004年5月1日 |
Structural research of La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3
bilayers on Si (100) substrates |
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| DU Yong-sheng.Structural research of La0.8Sr0.2MnO3/SrMnO3
bilayers on Si (100) substrates[J].Journal of Functional Materials,2004,35(Z1):620-622. |
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| Authors: | DU Yong-sheng |
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| Keywords: | |
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