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β-Ga_2O_3掺Al的电子结构与能带特性研究
引用本文:郑树文,范广涵,皮辉.β-Ga_2O_3掺Al的电子结构与能带特性研究[J].功能材料,2014(12).
作者姓名:郑树文  范广涵  皮辉
作者单位:华南师范大学光电子材料与技术研究所;微纳光子功能材料与器件重点实验室;
基金项目:国家自然科学基金资助项目(61176043);广东省战略性新兴产业专项资金资助项目(2012A080304016);华南师范大学青年教师培育基金资助项目(2012KJ018)
摘    要:采用第一性原理的平面波超软赝势方法,对β-Ga2O3掺Al的AlxGa2-xO3(x=0,0.5,1,1.5,2)合金进行结构优化、电子态密度和能带特性的研究。结果显示,AlxGa2-xO3为间接宽能隙材料,能隙是由导带底Ga 4s态和价带顶O 2p态共同决定,其弯曲系数分别为0.452eV(直接)和0.373eV(间接)。当增大Al的掺杂量,AlxGa2-xO3的体积变小,总能量升高,能隙逐渐增大,这与实验结果相一致。

关 键 词:第一性原理  β-GaO  Al掺杂  电子结构  能带特性
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