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| 物理气相沉积TiN复合涂层研究进展 | |
| 引用本文： | 胡树兵,李志章.物理气相沉积TiN复合涂层研究进展[J].材料科学与工程,2000,18(2):110-115. |
| 作者姓名： | 胡树兵 李志章 |
| 作者单位： | [1]浙江大学材料工程系 [2]华中理工大学模具技术国家重点实验室 |
| 摘 要： | 物理气相沉积（ＰＶＤ）ＴｉＮ涂层已获广泛应用。为克服单一ＴｉＮ涂层的缺陷及进一步改善Ｔｉｎ涂层的性能，近年来致力于复合涂层的研究。本文综述了ＴｉＮ＋Ｔｉ、ＴｉＮ＋化学镀Ｎｉ－Ｐ、ＴｉＮ＋氮化等复合涂层的工艺、组织和性能之间的关系，并探讨了过渡层的作用。 |
| 关 键 词： | 复合涂层 物理气相沉积 氮化钛 金属表面处理 |
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