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| 0.35μm相移掩模模拟计算及软件设计 | |
| 作者姓名： | 周崇喜 冯伯儒 |
| 作者单位： | [1]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重点实验室 [2]中国科学院光电技术研究所微细加工光学技术国家重 |
| 基金项目： | 中国科学院“九五”重大项目 |
| 摘 要： | 首先通过对０．３５μｍ接触方孔在不同相移掩模情况下硅片表面空间象光强分布的模拟计算，得出不同相移掩模情况下的最优相移参数。在几种相移掩模中，衰减型对南昌市边缘斜率最为明显，因此我们决定采用衰减型相移掩模。最后编制了相应的衫化软件，该软件能够自动生成各种相移掩模并能够模拟计算不同照明参数、不同掩模、不同数值孔径、不同离焦情况下的空间象分布，以及直接生成制作掩模时的激光直写数据。 |
| 关 键 词： | 相移掩模 衰减 计算机掩模 软件设计 IC |
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