| 连续位相板数控化学抛光制造技术研究 |
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| 引用本文： | 杨春林,侯晶,周礼书.连续位相板数控化学抛光制造技术研究[J].光电工程,2010,37(8). |
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| 作者姓名： | 杨春林 侯晶 周礼书 |
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| 作者单位： | 成都精密光学工程研究中心,成都,610041 |
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| 摘 要： | 将化学抛光工艺用于大口径连续位相板(CPP)的制造中,介绍了作为加工基础的Marangoni效应和化学抛光去除函数.在此基础上,结合CPP元件的面形特征,设计了小口径化学磨头.通过工艺实验讨论了刻蚀溶液中不同浓度NH4F添加量对刻蚀速率的影响,实验结果表明,NH4F添加量为10%～13%时可以获得最高的刻蚀速率.通过实验测算了温度波动在±1℃时,刻蚀速率的相对误差为7.8%.根据相关工艺参数设计了工艺流程,并针对不同面形特征的CPP元件进行了实际的加工,得到了与设计结果相符合的制造结果.
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| 关 键 词： | 光学制造 连续位相板 化学抛光 刻蚀速率 |
Fabrication Technique of Continuous Phase Plate by Using the Chemical Polishing System |
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| YANG Chun-lin,HOU Jing,ZHOU Li-shu.Fabrication Technique of Continuous Phase Plate by Using the Chemical Polishing System[J].Opto-Electronic Engineering,2010,37(8). |
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| Authors: | YANG Chun-lin HOU Jing ZHOU Li-shu |
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