首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

AlGaN/GaNHEMT器件研究
引用本文:曾庆明,吕长志,刘伟吉,李献杰,赵永林,敖金平,徐晓春.AlGaN/GaNHEMT器件研究[J].功能材料与器件学报,2000,6(3):170-173.
作者姓名:曾庆明  吕长志  刘伟吉  李献杰  赵永林  敖金平  徐晓春
作者单位:1. 信息产业部电子第十三研究所,石家庄市050051
2. 北京工业大学固态电子学研究所,北京市100022
摘    要:叙述了AlGaN/GaN HEMT的特点及制造工艺,给出其测试结果,最大跨导 ̄157ms/mm,由S参数测量扒出器件的截止频率fr和最高振荡频率fmax分别为12GHz和24GHz。

关 键 词:GaN  HEMT  AlGaN  制造  研制  截止频率
修稿时间::

Study on AlGaN/GaN HEMT devices
ZENG Qing-ming,LU Chang-zhi,LIU Wei-ji,LI Xian-jie,ZHAO Yong-lin,AO Jin-ping,XU Xiao-chun.Study on AlGaN/GaN HEMT devices[J].Journal of Functional Materials and Devices,2000,6(3):170-173.
Authors:ZENG Qing-ming  LU Chang-zhi  LIU Wei-ji  LI Xian-jie  ZHAO Yong-lin  AO Jin-ping  XU Xiao-chun
Abstract:
Keywords:HEMT
本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号