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用等离子体化学气相沉积制备导电碳
引用本文:
Jun Shioya ,赵正保.用等离子体化学气相沉积制备导电碳[J].新型炭材料,1988(3).
作者姓名:
Jun Shioya
赵正保
摘 要:
引言用等离子体化学气相沉积(CVD)制备导电碳最近变得越来越引人注目。用苯的射频等离子体制备薄的碳膜,其目的是在较低的沉积温度下获得很高的导电率碳膜。在一个加热到1000℃的石英基片上,用苯的等离子体沉积获得了导电率为500s/cm的碳膜。
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