| 直流热阴极PCVD法制备金刚石厚膜 |
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| 引用本文： | 金曾孙,姜志刚,白亦真,吕宪义.直流热阴极PCVD法制备金刚石厚膜[J].新型炭材料,2002,17(2):9-12. |
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| 作者姓名： | 金曾孙 姜志刚 白亦真 吕宪义 |
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| 作者单位： | 吉林大学,超硬材料国家重点实验室,吉林,长春,130023 |
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| 基金项目： | 国家 8 63新材料领域资助项目~~ |
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| 摘 要： | 建立和发展了非脉冲式的直流热阴极PCVD(PlasmaChemicalVapourDeposition)方法。通过采用温度为110 0℃～ 15 0 0℃的热阴极以及阴极和阳极尺寸不相等配置 ,在大的放电电流和高的气体气压下实现了长时间稳定的辉光放电 ,并用这种方法制备出大尺寸高质量的金刚石厚膜 ,其厚膜直径为 4 0mm～ 5 0mm ,膜厚为～ 4 .2mm ,生长速率最高达到 2 5 μm/h左右 ,在 5 μm/h～ 10 μm/h的生长速率下制出的金刚石厚膜 ,热导率一般在 10W/K·cm～12W /K·cm。高导热金刚石厚膜用做半导体激光二极管列阵的热沉和MCM的散热绝缘基板 ,明显地改善了它们的性能
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| 关 键 词： | 直流热阴极 PCVD法 制备 金刚石厚膜 |
| 文章编号： | 1007-8827(2002)02-0009-04 |
SYNTHESIS OF DIAMOND THICK FILM BY A HOT-CATHODE DC-PCVD METHOD |
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| JIN Zeng sun,JIANG Zhi gang,BAI Yi zen,LU Xian yi.SYNTHESIS OF DIAMOND THICK FILM BY A HOT-CATHODE DC-PCVD METHOD[J].New Carbon Materials,2002,17(2):9-12. |
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| Authors: | JIN Zeng sun JIANG Zhi gang BAI Yi zen LU Xian yi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Hot cathode PCVD Diamond thick film |
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