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微弧熔区的淬冷过程及其对氧化铝膜微观结构的影响
引用本文:李华平,柴广跃,彭文达,阳英,高敏,郭宝平,牛憨笨.微弧熔区的淬冷过程及其对氧化铝膜微观结构的影响[J].无机材料学报,2008,23(1):114-120.
作者姓名:李华平  柴广跃  彭文达  阳英  高敏  郭宝平  牛憨笨
作者单位:1. 中国科学院,西安光学精密机械研究所,西安,710068;中国科学院,研究生院,北京,100049;深圳大学,光电子学研究所,深圳,518060
2. 深圳大学,光电子学研究所,深圳,518060
基金项目:致谢:感谢杨海涛和郑瑞生老师给予一些实验和分析方面的建议.
摘    要:通过实验和模拟拟合,对微弧氧化过程中Al2O3膜表面的对流散热系数作了估计,实验过程中发现Al2O3/Al界面在微观上也是一个冷却界面,Al基体在冷却过程中起"热量中转"的作用,熔池在淬冷过程中的大部分热量经过了邻近区域的Al2O3膜或者铝基体.通过热模拟得到的纵深各点温度-时间曲线来表征微熔区的淬冷过程.通过对各节点的相对冷却速度比较,阐述了淬冷过程对α-Al2O3分布和Al2O3膜表面形貌的影响,压力因素在微观结构形成过程中所产生的影响作了粗略的分析.

关 键 词:铝合金  微弧氧化  淬冷过程  微观结构  有限元  微弧  熔区  淬冷  结构形成过程  氧化铝膜  微观结构  影响  Microarc  Oxidation  during  Quenching  Process  Simulation  Coating  Microstructure  分析  压力因素  膜表面形貌  分布  阐述  比较  冷却速度
文章编号:1000-324X(2008)01-0114-07
收稿时间:2007-01-20
修稿时间:2007-03-29

Simulation of Quenching Process during Microarc Oxidation (MAO) and its Effect on the Microstructure of Al2O3 Coating
LI Hua-Ping,CHAI Guang-Yue,PENG Wen-Da,YANG Ying,GAO Min,GUO Bao-Ping,NIU Han-Ben.Simulation of Quenching Process during Microarc Oxidation (MAO) and its Effect on the Microstructure of Al2O3 Coating[J].Journal of Inorganic Materials,2008,23(1):114-120.
Authors:LI Hua-Ping  CHAI Guang-Yue  PENG Wen-Da  YANG Ying  GAO Min  GUO Bao-Ping  NIU Han-Ben
Abstract:
Keywords:Al alloy  microarc oxidation  quenching  microstructure  FEM
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