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硅基LiNbO3薄膜的微结构研究
引用本文:卢焕明,叶志镇,黄靖云,汪雷,赵炳辉.硅基LiNbO3薄膜的微结构研究[J].无机材料学报,2005,20(4):971-975.
作者姓名:卢焕明  叶志镇  黄靖云  汪雷  赵炳辉
作者单位:浙江大学硅材料国家重点实验室,杭州,310027
基金项目:国家自然科学基金重大研究计划(90101009);浙江省留学回国基金(20046)
摘    要:利用透射电子显微镜及X射线衍射,研究脉冲激光沉积技术(PLD)在Si(001)衬底上生长LiNbO3薄膜的微结构.结果表明,在600℃的衬底温度、30Pa的氧分压条件下,在硅片表面5nm厚的非晶氧化层上生长的薄膜,为c轴择优取向的单相LiNbO3晶体,本文还讨论了获得c轴择优取向LiNbO3薄膜的生长机理.

关 键 词:LiNbO3薄膜  透射电子显微镜  PLD技术
文章编号:1000-324X(2005)04-0971-05
收稿时间:2004-5-11
修稿时间:2004-11-29

Microstructure of LiNbO3 Thin Films Grown on Silicon Substrates by Pulsed Laser Deposition
LU Huan-ming,YE Zhi-zhen,HUANG Jing-yun,WANG Lei,ZHAO Bing-hui.Microstructure of LiNbO3 Thin Films Grown on Silicon Substrates by Pulsed Laser Deposition[J].Journal of Inorganic Materials,2005,20(4):971-975.
Authors:LU Huan-ming  YE Zhi-zhen  HUANG Jing-yun  WANG Lei  ZHAO Bing-hui
Affiliation:StateKeyLaboratoryofSiliconMaterials;ZhejiangUniversity;Hangzhou310027;China
Abstract:
Keywords:LiNbO3  transmission electron microscopy  pulsed laser deposition
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