| 低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响 |
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| 引用本文： | 吴恒,李贺军,王永杰,付前刚,何子博,魏建锋.低压沉积温度对MoSi2涂层微观结构与性能影响[J].无机材料学报,2009,24(2). |
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| 作者姓名： | 吴恒 李贺军 王永杰 付前刚 何子博 魏建锋 |
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| 作者单位： | 西北工业大学,炭/炭复合材料工程技术研究中心,西安,710072 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金，国家重点基础研究发展规划(973计划) |
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| 摘 要： | 以SiCl4和H2为原料,采用低压化学气相沉积(LPCVD)渗硅法在Mo基体表面原位反应制备了MoSi2涂层,研究了沉积温度对MoSi2涂层微观形貌、物相组成、沉积速率、涂层的硬度、涂层与基体结合强度的影响.研究结果表明:在1100～1200℃下制备的涂层结构致密,由单一MoSi2组成,沉积速率、涂层的硬度以及与基体的结合强度均表现为増加的趋势;当沉积温度高于1200℃,涂层出现开裂现象,由游离Si和MoSi2两相组成,涂层沉积速率、硬度和结合强度均出现下降的趋势.1100℃以下沉积的主要控制步骤为Si与Mo反应,而1100℃以上Si在涂层中的扩散对沉积过程起控制作用.
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| 关 键 词： | MoSi2涂层 微观结构 性能 沉积温度 |
Effect of Deposition Temperature on Microstructures and Properties of MoSi2 Coatings Prepared by Low Pressure Chemical Vapor Deposition |
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| WU Heng,LI He-Jun,WANG Yong-Jie,FU Qian-Gang,HE Zi-Bo,WEI Jian-Feng.Effect of Deposition Temperature on Microstructures and Properties of MoSi2 Coatings Prepared by Low Pressure Chemical Vapor Deposition[J].Journal of Inorganic Materials,2009,24(2). |
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| Authors: | WU Heng LI He-Jun WANG Yong-Jie FU Qian-Gang HE Zi-Bo WEI Jian-Feng |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | LPCVD |
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