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高温等静压烧结Al2O3-ZrO2纳米陶瓷
引用本文:高濂,宫本大树.高温等静压烧结Al2O3-ZrO2纳米陶瓷[J].无机材料学报,1999,14(3).
作者姓名:高濂  宫本大树
作者单位:1. 中国科学院上海硅酸盐研究所高性能陶瓷和超微结构国家重点实验室,上海,200050
2. 日本大阪府立产业技术综合研究所,大阪,594-1157,日本
摘    要:本工作用化学共沉淀法制备了平均晶粒尺寸约20nm的20mol% Al2O3-ZrO2复合粉体,不含有Y2O3作为四方氧化锆的稳定剂. 粉体的煅烧温度为750C,XRD结果表明, 粉体中含100%立方氧化锆相,未发现有Al2O3结晶相存在. 该粉体用高温等静压方法, 在1000C和200MPa的条件下烧结1h,得到了平均晶粒尺寸为50 nm(TEM表征)的致密陶瓷,样品密度为理论密度的98%左右. 对样品抛光表面的XRD定量分析结果表明,其抛光表面的相组成为:55% t-ZrO2-39% m-ZrO2-6% α-Al2O3.

关 键 词:高温等静压烧结  氧化铝-氧化锆  纳米陶瓷

Fabrication of Al2O3-ZrO2 Nano-Ceramics by HIP
GAO Lian,MIYAMOTO Hiroki.Fabrication of Al2O3-ZrO2 Nano-Ceramics by HIP[J].Journal of Inorganic Materials,1999,14(3).
Authors:GAO Lian  MIYAMOTO Hiroki
Abstract:
Keywords:
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