| WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析 |
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| 引用本文： | 方国家,刘祖黎,姚凯伦.WO3/Si纳米晶薄膜的脉冲准分子激光沉积及结构分析[J].无机材料学报,2002,17(1):139-144. |
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| 作者姓名： | 方国家 刘祖黎 姚凯伦 |
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| 作者单位： | 华中科技大学激光技术国家重点实验室和物理系，武汉430074 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金（19775016），湖北省自然科学基金（99J049） |
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| 摘 要： | 采用脉冲准分子激光大面积扫描沉积技术，在Si(111)单晶衬底上沉积了WOx薄膜，采用X射线衍射（XRD）、喇曼光谱（RS），付里叶红外光谱（FT－IR）及透射电镜扫描附件（STEM）对不同条件下沉积的样品进行了结构分析，结果表明，氧分压和沉积温度是决定薄膜结构和成份的主要参数，在沉积温度300℃以上及20Pa氧压下得到了三斜相纳米晶WO3薄膜。
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| 关 键 词： | 三氧化钨薄膜 纳米晶 脉冲准分子激光沉积 PLD 结构分析 Si（111）衬底 性能 WO3薄膜 电致变色材料 |
| 文章编号： | 1000-324X(2002)01-0139-06 |
| 收稿时间： | 2000-12-28 |
| 修稿时间： | 2000年12月28 |
Preparation and Structure of Nano-crystalline WO3(Si) Thin Films by Pulsed Excimer Laser Deposition |
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| FANG Guo-Jia,LIU Zu-Li,YAO Kai-Lun.Preparation and Structure of Nano-crystalline WO3(Si) Thin Films by Pulsed Excimer Laser Deposition[J].Journal of Inorganic Materials,2002,17(1):139-144. |
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| Authors: | FANG Guo-Jia LIU Zu-Li YAO Kai-Lun |
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| Affiliation: | 1.NationalLab.ofLaserTechnologyandDepartmentofPhysies;HuazhongUniv.ofSci.&Tech.;Wuhan430074;China;2.DepartmentofPhysics;XiangfanUniv.;Xiangfan441053,China;3.InternationalCenterforMaterialPhysics,ChineseAcademyofSciences,Shenyang110015,China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | WO3 thin films nano-crystalline PLD technique structural analyses preparation conditions Si (111) |
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