| B_3N_3H_6微波等离子体增强化学气相沉积B－N薄膜 |
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| 引用本文： | 雷铭凯,马腾才.B_3N_3H_6微波等离子体增强化学气相沉积B－N薄膜[J].无机材料学报,1995(1). |
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| 作者姓名： | 雷铭凯 马腾才 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家联合实验室 |
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| 摘 要： | 采用Ｂ３Ｎ３Ｈ６－Ｎ２混合气体为原料，余辉微波等离子体增强化学气相沉积ＢＮ薄膜．漫反射富氏变换红外光谱分析表明，在５５０℃沉积温度下，ＩＣｒ１８Ｎｉ９Ｔｉ基片上获得了低含氢量的ｃ－ＢＮ和少量ｈ－ＢＮ相的混合薄膜．薄膜Ｋｎｏｏｐ硬度值为２０．８ＧＰａ．划痕试验法测定薄膜的附着性，临界载荷为８．１Ｎ．
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| 关 键 词： | BN薄膜，B_3N_3H_6，微波等离子体，等离子体增强化学气相沉积 |
Preparation of B-N Films by Remote Microwave Plasma Enhanced CVD from Borazine |
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| Lei Mingkai, Ma Tengcai.Preparation of B-N Films by Remote Microwave Plasma Enhanced CVD from Borazine[J].Journal of Inorganic Materials,1995(1). |
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| Authors: | Lei Mingkai Ma Tengcai |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | BN film borazine microwave plasma plasma enhanced chemical vapour deposition |
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