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高功率脉冲磁控溅射试验平台设计及放电特性研究
引用本文:王洪国,陈庆川,陈健,韩大凯,尹星,许泽金,沈丽茹,金凡亚.高功率脉冲磁控溅射试验平台设计及放电特性研究[J].真空,2012,49(5):25-27.
作者姓名:王洪国  陈庆川  陈健  韩大凯  尹星  许泽金  沈丽茹  金凡亚
作者单位:核工业西南物理研究院,四川成都,610041
摘    要:高功率脉冲磁控溅射(HPPMS)因其高离化率而得到广泛关注,是目前的热点研究方向,为此我们搭建了试验平台并对HPPMS的放电特性进行了研究.结果表明:脉冲峰值电流随脉冲电压的增加而增加,随着气压的增加而增加.本文为进一步研究高功率脉冲磁控溅射提供了硬件条件和参考.

关 键 词:高功率脉冲磁控溅射  磁控靶  放电特性

Experimental platform design of HPPMS system and its discharge behavior
WANG Hong-guo , CHEN Qing-chuan , CHEN Jian , HAN Da-kai , YIN Xing , XU Ze-jin , SHEN li-ru , JIN Fan-ya.Experimental platform design of HPPMS system and its discharge behavior[J].Vacuum,2012,49(5):25-27.
Authors:WANG Hong-guo  CHEN Qing-chuan  CHEN Jian  HAN Da-kai  YIN Xing  XU Ze-jin  SHEN li-ru  JIN Fan-ya
Affiliation:(Southwestern Institute of Physics,Chengdu 610054,China)
Abstract:
Keywords:
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