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| 电弧离子镀电弧源深入研究 | |
| 引用本文： | 毕凯,陈大民,李洪文.电弧离子镀电弧源深入研究[J].真空,2018(3). |
| 作者姓名： | 毕凯 陈大民 李洪文 |
| 作者单位： | 嘉兴岱源真空科技有限公司;大连纳晶科技有限公司;浙江凯捷新材料有限公司 |
| 摘 要： | 本文作者通过多年对电弧离子镀膜设备的设计、研发、试验和使用的理论实践,引述了电弧放电中的锁箍现象在设计中的应用要点;电弧源等离子体运动中的加功理论与设计,并引申出了"静电势阱"这一概念;提出了稳定电弧源的工作机理与方法;磁过滤电弧的应用;阳极层型离子源与电子束源在工具等离子镀膜中应用的比较;轴对称磁场在电弧源磁约束中的重要性及其使用等。 |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ | |