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| 高功率脉冲磁控溅射技术的研究及应用 | |
| 引用本文： | 马安博.高功率脉冲磁控溅射技术的研究及应用[J].真空,2018(2). |
| 作者姓名： | 马安博 |
| 作者单位： | 西安航空职业技术学院 |
| 摘 要： | 高功率脉冲磁控溅射技术(HIPIMS)是最新发展起来并受到广泛关注的一种高离化率物理气相沉积技术。本文首先从高功率脉冲磁控溅射技术原理与特点出发,然后简单介绍了高功率脉冲磁控溅射技术发展过程及目前研究现状,最后重点分析了高功率脉冲磁控溅射技术目前存在的问题及未来发展趋势。 |
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