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| 用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源 | |
| 引用本文： | 吴振华,黄经筒.用于真空电弧离子镀膜的受控电弧蒸发源[J].真空,1992(2):9-17,30. |
| 作者姓名： | 吴振华 黄经筒 |
| 作者单位： | 中国科学院电工研究所 北京100080 (吴振华，黄经筒)，中国科学院电工研究所 北京100080(游本章) |
| 基金项目： | 国家自然科学基金资助项目 |
| 摘 要： | 本文在研究了阴极弧斑运动规律的基础上，发展了多功能受控电弧蒸发源，它可在自由电弧状态下运行，而在２００～２５０Ａ高参数运行时，可使阴极弧斑覆盖几乎整个阴极表面且多轨迹旋转，使阴极烧蚀均匀，提高了镀膜沉积速率，薄膜质量也相应提高。研制的另一种环形阴极旋转电弧蒸发源，可基本消除液滴，使阴极利用率更高。 |
| 关 键 词： | 真空电弧 蒸发源 电弧 离子镀膜 |
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