新型离子束增强沉积技术 |
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引用本文: | 李国卿,王洋.新型离子束增强沉积技术[J].真空,1998(6):40-43. |
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作者姓名: | 李国卿 王洋 |
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作者单位: | 大连理工大学三束材料表面改性国家重点实验室,沈阳真空技术研究所,大连海事大学金属材料工艺研究所 |
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摘 要: | 离子束增强沉积技术是近年在离子注入技术基础上发展的新型材料表面改性技术,本文简要介绍多功能离子束增强沉积设备和应用技术研究,设备具有金属离子注入、气体离子注入、离子束增强沉积、磁控溅射沉积功能,进行材料表面改性和制备各种材料薄膜科学研究。
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关 键 词: | 增强沉积 表面改性 薄膜 离子束 |
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