| 等离子体技术在碳氮膜制备中的应用 |
| |
| 引用本文： | 李建,刘艳红,俞世吉,马腾才.等离子体技术在碳氮膜制备中的应用[J].真空,2004,41(2):8-13. |
| |
| 作者姓名： | 李建 刘艳红 俞世吉 马腾才 |
| |
| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性国家重点实验室,辽宁,大连,116024 |
| |
| 摘 要： | β-C3N4是Cohen等人从理论上预言的一种可能比金刚石更硬的物质,含有β-C3N4的碳氮膜具有优异的电学、光学和机械特性,在很多领域有应用前景.人们已经应用多种方法进行碳氮膜的制备.本文将对等离子体技术在碳氮膜制备中的应用进行综述,并在成膜速率、成膜质量等方面,对以往工作成果进行论述;最后将讨论沉积过程中几个参量对碳氮膜沉积速率、膜结构等的影响.
|
| 关 键 词： | 碳氮膜 等离子体 薄膜β-C3N4 |
| 文章编号： | 1002-0322(2004)02-0008-06 |
Applications of plasma technology to deposition of carbon nitride films |
| |
| LI Jian,LIU Yan-hong,YU Shi-ji,MA Teng-cai er Beams,Dalian University of Technology,Dalian ,China.Applications of plasma technology to deposition of carbon nitride films[J].Vacuum,2004,41(2):8-13. |
| |
| Authors: | LI Jian LIU Yan-hong YU Shi-ji MA Teng-cai er Beams Dalian University of Technology Dalian China |
| |
| Affiliation: | LI Jian,LIU Yan-hong,YU Shi-ji,MA Teng-cai er Beams,Dalian University of Technology,Dalian 116024,China) |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | |
| 本文献已被 CNKI 维普 万方数据 等数据库收录！ |
|
