| 蒸镀碳化铪(HfC)对单根碳纳米管场致发射性能的改善 |
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| 引用本文： | 潜力,王昱权,刘亮,范守善.蒸镀碳化铪(HfC)对单根碳纳米管场致发射性能的改善[J].真空,2010,47(5). |
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| 作者姓名： | 潜力 王昱权 刘亮 范守善 |
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| 作者单位： | 清华-富士康纳米科技研究中心,物理系,清华大学,北京,100084 |
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| 摘 要： | 采用双向电泳法,在原子力显微镜探针尖端组装了单根碳纳米管,在真空环境下对比测量了单根碳纳米管蒸镀低逸出功材料HfC前后场致发射电流曲线和电流噪声的特点。证明了HfC蒸镀在碳纳米管上能够显著降低发射体的逸出功,减少电流噪声,并且观察到单根碳纳米管蒸镀了HfC后7μA左右的稳定电流发射。通过分析电流噪声,认为碳纳米管场致发射噪声主要来自吸附气体的频繁吸附和脱附。在低电流下,空间电离的离子轰击发射体表面,对吸附状态的影响占主导地位。当单根碳纳米管的场致发射电流超过1μA量级以后,碳纳米管表面温度快速升高,温度对气体吸附的影响占主导地位,吸附的气体分子逐渐脱附后,电流噪声开始降低。
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| 关 键 词： | 碳纳米管 场致发射 碳化铪 原子力显微镜 |
Improving field emission properties of single carbon nanotube by HfC evaporation coating |
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| QIAN Li,WANG Yu-quan,LIU Liang,FAN Shou-shan.Improving field emission properties of single carbon nanotube by HfC evaporation coating[J].Vacuum,2010,47(5). |
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| Authors: | QIAN Li WANG Yu-quan LIU Liang FAN Shou-shan |
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