首页 | 本学科首页   官方微博 | 高级检索  
     

TFT/PDP用真空成膜技术和设备
引用本文:伊藤.TFT/PDP用真空成膜技术和设备[J].真空,1998(5):7-13.
作者姓名:伊藤
作者单位:日本真空技术株式会社半导体电子机器营业本部
摘    要:本文介绍了TFT/PDP用真空成膜技术和设备,主要介绍了TFT用ITO膜和PDP用MgO/Cu,Cr,Al膜的成膜技术和设备。

关 键 词:保护膜  电极膜  滤光片  CF  TFT  PDP  薄膜技术  
本文献已被 CNKI 维普 等数据库收录!
设为首页 | 免责声明 | 关于勤云 | 加入收藏

Copyright©北京勤云科技发展有限公司  京ICP备09084417号