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杂志ISSN号
TFT/PDP用真空成膜技术和设备
引用本文:
伊藤.TFT/PDP用真空成膜技术和设备[J].真空,1998(5):7-13.
作者姓名:
伊藤
作者单位:
日本真空技术株式会社半导体电子机器营业本部
摘 要:
本文介绍了TFT/PDP用真空成膜技术和设备,主要介绍了TFT用ITO膜和PDP用MgO/Cu,Cr,Al膜的成膜技术和设备。
关 键 词:
保护膜
电极膜
滤光片
CF
TFT
PDP
薄膜技术
铬
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