| 合肥光源真空室内壁镀TiZrV吸气剂薄膜的研究 |
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| 引用本文： | 张波,王勇,尉伟,范乐,王建平,张玉方,李为民.合肥光源真空室内壁镀TiZrV吸气剂薄膜的研究[J].真空,2010,47(4). |
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| 作者姓名： | 张波 王勇 尉伟 范乐 王建平 张玉方 李为民 |
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| 作者单位： | 中国科学技术大学,国家同步辐射实验室,安徽,合肥,230029 |
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| 基金项目： | 国家自然科学基金委资助课题 |
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| 摘 要： | TiZrV合金在180℃下加热24 h即可激活,是迄今发现的激活温度最低的非蒸散型吸气剂,已在国外一些粒子加速器得到应用。采用直流磁控溅射法,氩气作为放电气体,成功的在不锈钢管道内壁获得了TiZrV薄膜。薄膜中TiZrV之比为3:3:4左右,位于"低激活温度区"。利用三段一米长的螺线管串联所产生的磁场维持放电,完成了对三米长的波荡器真空室的镀TiZrV薄膜处理,并已安装在合肥光源储存环上,目前运行情况正常。
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| 关 键 词： | TiZrV薄膜 非蒸散型吸气剂 直流磁控溅射 粒子加速器 |
Deposition of TiZrV non-evaporable getter film onto the inner wall of vacuum chamber of Hefei Light Source |
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| ZHANG Bo,WANG Yong,WEI Wei,FAN Le,WANG Jian-ping,ZHANG Yu-fang,LI Wei-min.Deposition of TiZrV non-evaporable getter film onto the inner wall of vacuum chamber of Hefei Light Source[J].Vacuum,2010,47(4). |
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| Authors: | ZHANG Bo WANG Yong WEI Wei FAN Le WANG Jian-ping ZHANG Yu-fang LI Wei-min |
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