| 原子层沉积系统设计的研究 |
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| 引用本文： | 叶位彬,黄光周,朱建明,戴晋福.原子层沉积系统设计的研究[J].真空科学与技术学报,2011,31(1):57-60. |
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| 作者姓名： | 叶位彬 黄光周 朱建明 戴晋福 |
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| 作者单位： | 1. 华南理工大学,电子与信息学院,广州,510640
2. 广东肇庆科润真空设备有限公司,肇庆,526060 |
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| 摘 要： | 本文介绍作者自行设计的原子层沉积(ALD)实验系统和所沉积薄膜的检测结果。为了研究ALD技术,作者设计了一套试验性的ALD沉积系统。该系统主要由反应腔、前驱体容器、真空泵、控制系统等部件构成。两个前驱体容器带有加热装置,支持气体或液体前驱体。前驱体、反应腔的温度,沉积过程中气体的交替,以及各种参数都可以设定,并由控制系统自动控制。在系统测试中,使用Al2(CH3)3和H2O作为前驱体,在含有Si-H键的Si基片上沉积Al2O3高k介质薄膜。使用电子探针分析仪分析薄膜成分后,证实了所沉积的薄膜是Al2O3。使用XPS分析薄膜表面时只检测到Al,O元素,没有检测到Si元素,说明Al2O3薄膜是连续的,完整地覆盖了Si表面。使用X射线光电子谱检测元素面分布的结果显示,Al,O在Si上的分布具有较好均一性,表明Al2O3薄膜的均匀性良好。使用电子束照射已沉积Al2O3的Si基片时,发现有大量电子累积在薄膜表面,说明所沉积的Al2O3具有良好的介电性。
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| 关 键 词： | 原子层沉积 前驱体 高k介质薄膜 表面分析 |
Preliminary Results in Design of Atomic Layer Deposition Setup |
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| Ye Weibin,Huang Guangzhou,Zhu Jianming,Dai Jinfu.Preliminary Results in Design of Atomic Layer Deposition Setup[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2011,31(1):57-60. |
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| Authors: | Ye Weibin Huang Guangzhou Zhu Jianming Dai Jinfu |
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| Affiliation: | 1.School of Electronic and Information Engineering,South China University of Technology,Guangzhou 510640,China;2.Zhaoqing Kerun Vacuum Equipment CO.,LTD,Zhaoqing 526060,China) |
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