| 磁场对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响 |
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| 引用本文： | 刘琪,王文涛,林国强.磁场对电弧离子镀深管内壁沉积TiN薄膜的影响[J].真空科学与技术学报,2011,31(1):71-75. |
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| 作者姓名： | 刘琪 王文涛 林国强 |
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| 作者单位： | 大连理工大学三束材料改性实验室,大连,116024 |
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| 摘 要： | 用电弧离子镀设备在一端封口的Φ50 mm×200 mm×5 mm不锈钢深管内壁上沉积TiN薄膜,镀膜前在管子上方布置一个0.4 T的永磁体,以考察附加磁场对深管内壁沉积TiN薄膜的影响。对薄膜的厚度、表面形貌、相结构、显微硬度等随管子深度的变化进行了分析与测试,结果表明,薄膜的厚度及显微硬度都随管子的深度而下降,但在距管开口处前120 mm范围内下降明显慢于未加磁场的,说明磁场对内孔沉积具有促进作用;按照显微硬度不低于20 GPa划分,本实验的镀膜深径比达到了2.0,比未加磁场时提高了40%。
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| 关 键 词： | 电弧离子镀 磁场 管内壁 TiN薄膜 |
Magnetic Field and TiN Film Growth by Arc Ion Plating on Inner Walls of Deep Tubes |
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| Liu Qi,Wang Wentao,Lin Guoqiang.Magnetic Field and TiN Film Growth by Arc Ion Plating on Inner Walls of Deep Tubes[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2011,31(1):71-75. |
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| Authors: | Liu Qi Wang Wentao Lin Guoqiang |
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| Affiliation: | (Materials Modification by Laser,Ion and Electron Beams,Dalian University of Technology,Dalian 116024,China) |
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