| Ni修饰层对SnO2薄膜气敏性能影响 |
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| 引用本文： | 王磊,杜军,毛昌辉,杨志民.Ni修饰层对SnO2薄膜气敏性能影响[J].真空科学与技术学报,2006,26(6):512-516. |
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| 作者姓名： | 王磊 杜军 毛昌辉 杨志民 |
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| 作者单位： | 北京有色金属研究总院先进电子材料研究所,北京,100088 |
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| 摘 要： | 采用磁控溅射技术在SnO2薄膜表面修饰金属Ni，研究Ni修饰量对SnO2薄膜气敏性能影响。对Ni-SnO2薄膜进行表面成分分析，发现Ni的表面含量和化学价态对Ni-SnO2薄膜气敏性能影响至关重要。Ni的表面修饰量在3．4％-8．8％之间将有效提高SnO2薄膜对低浓度氢气的敏感性能。180℃工作温度下，表面含Ni3．4％的SnO2薄膜对1000ppm的氢气灵敏度最高为59．6，同时响应时间和恢复时间降低至15s和125s。Ni修饰量增加到23．4％，薄膜的气敏性能恶化，这是因为修饰层过厚，阻碍气体与SnO2材料接触。同时，XPS证实NiO是增加SnO2薄膜气敏性能的主要物质，增敏机理解释为Ni氧化后形成的NiO在SnO2薄膜上形成p-n结，促进元件的电导变化，从而提高了薄膜的气敏性能。
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| 关 键 词： | 薄膜 表面修饰 气体传感器 |
| 文章编号： | 1672-7126（2006）06-0512-05 |
| 收稿时间： | 2006-03-01 |
| 修稿时间： | 2006年3月1日 |
Influence of Nickel Modification Layers on Gas Sensitivity of SnO2-Based Gas Sensors |
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| Wang Lei,Du Jun,Mao Changhui,Yang Zhimin.Influence of Nickel Modification Layers on Gas Sensitivity of SnO2-Based Gas Sensors[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2006,26(6):512-516. |
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| Authors: | Wang Lei Du Jun Mao Changhui Yang Zhimin |
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| Affiliation: | Advanced Electronic Materials of lnstitute, General Research Institute for Nonferrous Metals, Beijing 100088, China |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | SnO2 Ni |
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