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栅绝缘层过孔的反应离子刻蚀研究

引用本文：	姜晓辉,田宗民,李田生,张家祥,王亮,沈奇雨,崔玉琳,侯学成,郭建,陈旭,谢振宇,闵泰烨.栅绝缘层过孔的反应离子刻蚀研究[J].真空科学与技术学报,2014(3):278-281.

作者姓名：	姜晓辉田宗民李田生张家祥王亮沈奇雨崔玉琳侯学成郭建陈旭谢振宇闵泰烨

摘要：
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