| 用低能电子衍射谱仪(LEED)观察氢终止的Si(111)表面 |
| |
| 引用本文： | 李晴,胡晓晖,林彰达.用低能电子衍射谱仪(LEED)观察氢终止的Si(111)表面[J].真空科学与技术学报,1994(1). |
| |
| 作者姓名： | 李晴 胡晓晖 林彰达 |
| |
| 作者单位： | 中国科学院表面物理国家重点实验室!北京100080 |
| |
| 摘 要： | 本文描述了一种得到无重构的理想的氢终止Si（111）表面的化学处理方法，用这种方法得到的表面，可以用低能电子衍射谱仪（LEED）进行结构研究。本实验使用我们自己设计加工的电子背轰击式加热器，作品可加热到800℃以上，亦可冷却到液氮温度。文中对氢终止Si（111）表面的研究的初步结果作一概述，给出了表面覆盖氢化物的LEED研究证据。
|
| 关 键 词： | 低能电子 衍射 氢终止 |
H TERMINATION OF Si(111) SURFACE OBSERVED BY LOW ENERGY ELECTRON DIFFRACTION |
| |
| Li Qing, Hu Xiaohui, Lin Zhangda.H TERMINATION OF Si(111) SURFACE OBSERVED BY LOW ENERGY ELECTRON DIFFRACTION[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1994(1). |
| |
| Authors: | Li Qing Hu Xiaohui Lin Zhangda |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Low energy electron Diffraction H termination |
| 本文献已被 CNKI 等数据库收录！ |
