| X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用 |
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| 引用本文： | 孙宝银,陈梦真,朱樟震,伊福廷.X射线镂空硅掩模在同步辐射X射线深层光刻中的应用[J].真空科学与技术学报,1995(3). |
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| 作者姓名： | 孙宝银 陈梦真 朱樟震 伊福廷 |
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| 作者单位： | 中国科学院微电子中心!北京100010(孙宝银，陈梦真)，中国科学院高能物理研究所!北京100039(朱樟震，伊福廷) |
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| 摘 要： | 阐述了X射线镂空硅掩模的研制及其在同步辐射深层光刻中的应用。在北京同步辐射国家实验室X射线光刻装置上，采用本文研制的X射线镂空硅掩模获得胶厚为30～40μm、侧壁很陡、边缘很直的X射线深层光刻胶图形。
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| 关 键 词： | 镂空硅掩模 X射线 深层光刻 同步辐射 |
APPLICATION OF X-RAY STENCIL SILICON MASK IN SYNCHROTRON RADIATION X-RAY DEEP LITHOGRAPHY |
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| Sun Baoyin, Chen Mengzhen, Zhu Zhangzhen, Yi Futing.APPLICATION OF X-RAY STENCIL SILICON MASK IN SYNCHROTRON RADIATION X-RAY DEEP LITHOGRAPHY[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1995(3). |
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| Authors: | Sun Baoyin Chen Mengzhen Zhu Zhangzhen Yi Futing |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Stencil silicon mask X-ray Deep lithography Synchrotron radiation |
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