N~ 、Xe~ 离子注入银薄膜的实验分析 |
| |
引用本文: | 张以忱
,杨乃恒
,庞世瑾
,边为民.N~ 、Xe~ 离子注入银薄膜的实验分析[J].真空科学与技术学报,1989(1). |
| |
作者姓名: | 张以忱 杨乃恒 庞世瑾 边为民 |
| |
作者单位: | 中国科学院北京真空物理实验室,东北工学院 |
| |
摘 要: | 实验研究了离子注入对多晶银薄膜晶体结构及表面成份的影响。在室温环境下,将能量为24keV的N~ 离子和350keV的Xe~ 离子以不同的注入剂量注入到多晶银薄膜中。对离子注入前后的银薄膜样品进行了透射电子显微镜(TEM)观察和X射线光电子能谱(XPS)及俄歇电子能谱(AES)分析。经分析发现,离子注入后在银薄膜中出现了再结晶和晶粒长大现象,而且晶粒尺寸随注入离子的剂量增加而增加。当注入的N~ 离子剂量≥1.3×10~(17)Ions/cm~2及注入的Xe~ 离子剂量达到3×10~(16)Ions/cm~2时,多晶银膜转变成单晶银薄膜。本文对实验结果进行了讨论。
|
本文献已被 CNKI 等数据库收录! |
|