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靶电流对电弧离子镀TiAlN膜层组织及成分的影响
引用本文:王少鹏,潘晓龙,李争显,王宝云,严鹏,姬寿长.靶电流对电弧离子镀TiAlN膜层组织及成分的影响[J].真空科学与技术学报,2008,28(Z1):64-67.
作者姓名:王少鹏  潘晓龙  李争显  王宝云  严鹏  姬寿长
作者单位:西北有色金属研究院腐蚀与防护研究所,西安,710016
摘    要:采用高纯铝、钛两个靶材,分别在纯钛TA2和钛合金TC11基材上沉积制备了TiAlN膜层.用扫描电子显微镜(SEM)观察了膜层的形貌、用能谱仪(EDS)分析了膜层的成分.结果表明在不同基材上沉积的膜层表面形貌存在差异;两种工艺在不同的基材上沉积的膜层中N、Al和Ti元素呈梯度分布,可明显的观察到界面处存在这三种元素的互扩散,使膜层与基体间形成冶金结合.

关 键 词:电弧离子镀  TiAlN  组织  成分  靶电流  电弧离子镀  TiAlN  Coating  膜层组织  成分  影响  Arc  Ion  Plating  Microstructures  Current  Target  冶金结合  基体  互扩散  界面  梯度分布  元素  工艺  差异  存在  表面形貌
文章编号:1672-7126(2008)增刊-064-04
修稿时间:2007年8月25日

Influence of Target Current on Microstructures and Stoichiometries of TiAlN Coating Deposited by Arc Ion Plating
Wang Shaopeng,Pan Xiaolong,Li Zhengxian,Wang Baoyun,Yan Peng,Ji Shouchang.Influence of Target Current on Microstructures and Stoichiometries of TiAlN Coating Deposited by Arc Ion Plating[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(Z1):64-67.
Authors:Wang Shaopeng  Pan Xiaolong  Li Zhengxian  Wang Baoyun  Yan Peng  Ji Shouchang
Abstract:
Keywords:
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