| 连续快速常压化学气相沉积法制备TiO2自清洁镀膜玻璃 |
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| 引用本文： | 翁伟浩,宋晨路,翁文剑,刘军波,应益明,韩高荣.连续快速常压化学气相沉积法制备TiO2自清洁镀膜玻璃[J].真空科学与技术学报,2008,28(1):16-20. |
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| 作者姓名： | 翁伟浩 宋晨路 翁文剑 刘军波 应益明 韩高荣 |
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| 作者单位： | 浙江大学材料科学与工程学系,杭州,310027 |
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| 摘 要： | 以四异丙醇钛（TTIP）为先驱体，采用常压化学气相沉积（APCVD）法模拟镀膜工艺过程，制备出了TiO2自清洁镀膜玻璃。通过扫描电镜（SEM）、X射线衍射（XRD）、紫外．可见透射光谱（UV-Vis）等手段对样品进行分析，并研究了基板温度和移动速率与薄膜性能之间的关系。结果表明，当基板温度升高至580℃时，能够形成平整致密的薄膜，薄膜的结晶度，光催化性能和亲水性能也达到最好；基板移动速度下降到1．5m／min时，薄膜的结晶度，光催化性和亲水性也可得到改善。依据光催化性能和亲水性能测试，表明沉积TiO2薄膜的最佳条件为基板温度580℃，基板速度1．5m／min。
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| 关 键 词： | TiO2 常压化学气相沉积 自清洁 镀膜玻璃 连续 快速 化学 气相沉积 法制 自清洁 镀膜玻璃 Atmospheric Pressure Chemical Vapor Deposition Glass Coating 移动速度 条件 最佳 性能测试 改善 亲水性能 光催化性能 结晶度 薄膜性能 |
| 文章编号： | 1672-7126（2008）01-016-05 |
| 收稿时间： | 2007-02-12 |
| 修稿时间： | 2007年2月12日 |
Fast Coating of TiO2 on Glass by Chemical Vapor Deposition at Atmospheric Pressure |
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| Weng Weihao,Song Chenlu,Weng Wenjian,Liu Junbo,Ying Yiming,Han Gaorong.Fast Coating of TiO2 on Glass by Chemical Vapor Deposition at Atmospheric Pressure[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2008,28(1):16-20. |
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| Authors: | Weng Weihao Song Chenlu Weng Wenjian Liu Junbo Ying Yiming Han Gaorong |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | TiO2 APCVD Self-cleaning Coated glass |
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