| 高效率平面磁控溅射器的研制 |
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| 引用本文： | 应春,沈杰,唐沪军,杨锡良,章壮健.高效率平面磁控溅射器的研制[J].真空科学与技术学报,1996(6). |
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| 作者姓名： | 应春 沈杰 唐沪军 杨锡良 章壮健 |
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| 作者单位： | 复旦大学材料科学系!上海200433 |
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| 摘 要： | 介绍一种新型磁控溅射装置。它采用两块极性相对的环状磁铁的设计方法，通过扩大靶表面的等离子放电区域面积，使传统磁控溅射枪使用中经常受到的两个限制──溅射速率与靶的利用率得到了较大的改善。实验中铜靶在溅射功率密度为11W／cm~2时溅射速率约为800nm／min，如果继续提高功率则可获得更高的速率。而靶的利用率可达64％左右。另外，在认为出射粒子符合cos~nθ分布的前提下，发现当n＝3．3时，实验数据和理论数据符合得较好。
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| 关 键 词： | 磁控溅射器 沉积速率 靶利用率 角分布 |
A STUDY OF THE HIGH-EFFICIENCY PLANAR MAGNETRON SPUTTERING GUN |
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| Ying Chun,Shen Jie,Tang Hujun,Yang Xiliang,Zhang Zhuangjian.A STUDY OF THE HIGH-EFFICIENCY PLANAR MAGNETRON SPUTTERING GUN[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,1996(6). |
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| Authors: | Ying Chun Shen Jie Tang Hujun Yang Xiliang Zhang Zhuangjian |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | Magnetron sputtering gun Deposition rate Target utilization ratio Angular distribution |
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