| 微波ECR等离子体刻蚀系统 |
| |
| 引用本文： | 徐新艳,汪家友,杨银堂,李跃进,吴振宇.微波ECR等离子体刻蚀系统[J].真空科学与技术学报,2002,22(5):385-388. |
| |
| 作者姓名： | 徐新艳 汪家友 杨银堂 李跃进 吴振宇 |
| |
| 作者单位： | 西安电子科技大学微电子研究所,西安,710071 |
| |
| 摘 要： | 研制成功了一台微波电子回旋共振等离子体刻蚀系统。该系统采用微波通过同轴开口电介质空腔产生表面波 ,由Nd Fe B永磁磁钢形成高强磁场 ,通过共振磁场区域内的电子回旋共振效应产生大面积、均匀、高密度等离子体。利用该系统实现了SiO2 、SiN、SiC、Si等材料的微细图形刻蚀 ,刻蚀速度分别为 2 0 0nm/min ,5 0 0nm/min ,4 0 0nm/min ,70 0nm/min ,加工硅圆片Φ2 0 0mm ,线条宽度 <0 3μm ,选择性 (SiO2 、Si) >2 0 ,剖面控制 >83° ,均匀性 95 % ,等离子体密度 2 0× 10 11cm-3 。电离度大(>10 % ) ,工作气压低 (1Pa～ 10 -3 Pa) ,均匀性好 ,工艺设备简单 ,参数易于控制等优点。
|
| 关 键 词： | 微波电子回旋共振等离子体 刻蚀 同轴腔体 |
| 文章编号： | 0253-9748(2002)05-0385-04 |
| 修稿时间： | 2001年12月25 |
Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching System |
| |
| Xu Xinyan,Wang Jiayou,Yang Yintang,Li Yuejin,Wu Zhenyu.Microwave Electron Cyclotron Resonance Plasma Etching System[J].JOurnal of Vacuum Science and Technology,2002,22(5):385-388. |
| |
| Authors: | Xu Xinyan Wang Jiayou Yang Yintang Li Yuejin Wu Zhenyu |
| |
| Abstract: | |
| |
| Keywords: | Microwave ECR plasma Etching Coaxial cavity |
| 本文献已被 CNKI 万方数据 等数据库收录！ |
|
