沉积在Pt电极上的铁电PZT薄膜特性 |
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引用本文: | 黄龙波,李佐宜,卢德新.沉积在Pt电极上的铁电PZT薄膜特性[J].真空科学与技术学报,1996(3). |
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作者姓名: | 黄龙波 李佐宜 卢德新 |
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作者单位: | 华中理工大学固体电子学系!武汉430074武汉邮电科学研究院固体器件所武汉430074(黄龙波),华中理工大学固体电子学系!武汉430074(李佐宜,卢德新) |
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摘 要: | 研究了射频磁控溅射沉积在Pt电极上的Pb(Zr0.53Ti0.47)O3薄膜特性。经过不同温度退火处理后得到了钙钛矿结构的PZT薄膜。在对其结构的形成和变化进行研究的基础上,探讨了薄膜PZT相的形成机理。其电性能的测试表明,这种铁电PZT(53/47)薄膜具有较好的铁电性能和疲劳特性。在600℃下PZT薄膜的剩余极化强度Pr为24.8μC/cm2,矫顽场强度Ec为70kV/cm。210kV/cm的电场下,疲劳循环直到4×108次时,最大极化强度仍有20.6μC/cm2,降低了约34%,其剩余极化强度保持为10μC/cm2左右。
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关 键 词: | 铁电薄膜 射频磁控溅射 特性 |
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