| IBAD合成CNx／NbN纳米多层膜 |
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| 引用本文： | 王静,何建立,李文治,李恒德.IBAD合成CNx／NbN纳米多层膜[J].材料研究学报,1998,12(5):543-545. |
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| 作者姓名： | 王静 何建立 李文治 李恒德 |
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| 作者单位： | 清华大学材料科学与工程系!北京市，100084(王静)，清华大学!北京市，100084(何建立，李文治，李恒德) |
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| 摘 要： | 用离子束辅助沉积技术（ＩｏｎＢｅａＡｓｓｉｓｔｅｄＤｅｐｏｓｉｔｉｏｎ，ＩＢＡＤ）制成ＣＮｘ／ＮｂＮ纳米多层膜，研究了工艺参数（轰击能量，基片温度）对膜的结构和性能的影响，分析表明，多层膜内的ＮｂＮ为多晶结构，在轰击能量为４００ｅＶ，基片温度为６００℃时，得到了与β－Ｃ３Ｎ４的晶面间距相对应的三条电子衍射环，基片温度的上升，膜层的硬度上升，轰击能量增大，则膜层的硬度表现为先上升后下降，最大显微硬度
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| 关 键 词： | 纳米 多层膜 结构微组装 IBAD 氮化碳／氮化铌 |
| 收稿时间： | 1998-10-25 |
| 修稿时间： | 1998-10-25 |
THE INVESTIGATIONS ON NANA-SCALE MULTILAYERS OF CN_x/NbN SYNTHESIZED BY IBAD |
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| WANG Jing,HE Jianli,LI Wenzhi,LI Hengde.THE INVESTIGATIONS ON NANA-SCALE MULTILAYERS OF CN_x/NbN SYNTHESIZED BY IBAD[J].Chinese Journal of Materials Research,1998,12(5):543-545. |
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| Authors: | WANG Jing HE Jianli LI Wenzhi LI Hengde |
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| Affiliation: | WANG Jing,HE Jianli,LI Wenzhi,LI Hengde(Depertment of Material Science and Technolopy,Tsinghua Univ.,Beijing ) |
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| Abstract: | Nano-scale multilayers of CNx/NbN have been prepared by ion beam sputtering deposition. The effects of such deposition parameters as substrate temperature, bombarding energy individual layer thickness, etc, were studied. TEM and X-ray analysis confirmed t |
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| Keywords: | |
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