| ITO薄膜的XPS和AES研究 |
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| 引用本文： | 陈猛,裴志亮,白雪冬,黄荣芳,闻立时.ITO薄膜的XPS和AES研究[J].材料研究学报,2000,14(2):173-178. |
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| 作者姓名： | 陈猛 裴志亮 白雪冬 黄荣芳 闻立时 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所 |
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| 摘 要： | 分别用 ＸＰＳ和 ＡＥＳ分析了ＩＴＯ薄膜真空退火前后各元素化学状态的变化和深度分布情况．研究表明，退火前后Ｓｎ和Ｉｎ处于各自相同的化学状态中．Ｏ以氧充足和氧缺乏两种化合状态存在，其结合能值分别为（５２９．９０±０．３０）ｅＶ和（５３１．４０±０．２０）ｅＶ．氧缺位状态主要分布在薄膜表层各元素在薄膜体内分布均匀而在膜基界面存在金属富集
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| 关 键 词： | 化学状态 光电子能谱 俄歇电子能谱 ITO薄膜 |
| 文章编号： | 1005-3093(2000)03-0173-06 |
| 修稿时间： | 1999年1月29日 |
XPS AND AES STUDIES OF ITO THIN FILMS |
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| CHEN Meng,PEI Zhiliang,BAI Xuedong,HUANG Rongfang,WEN Lishi.XPS AND AES STUDIES OF ITO THIN FILMS[J].Chinese Journal of Materials Research,2000,14(2):173-178. |
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| Authors: | CHEN Meng PEI Zhiliang BAI Xuedong HUANG Rongfang WEN Lishi |
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| Abstract: | |
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| Keywords: | chemical state XPS AES Gauss simulation |
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