| 离子束增强反应磁控溅射AIN膜的组织结构及光学特性 |
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| 引用本文： | 王浩,黄荣芳,洪瑞江,吴杰,闻立时.离子束增强反应磁控溅射AIN膜的组织结构及光学特性[J].材料研究学报,1992,6(3):236-240. |
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| 作者姓名： | 王浩 黄荣芳 洪瑞江 吴杰 闻立时 |
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| 作者单位： | 中国科学院金属研究所
(王浩，黄荣芳，洪瑞江，吴杰)，中国科学院金属研究所(闻立时) |
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| 摘 要： | 对离子束增强反应磁控溅射低温沉积 AIN 膜层组织形貌、晶体结构、电子结构及其光学特性进行了研究。结果表明膜层组织均匀,晶粒细小,薄膜 AIN 是呈(002)择优取向的密排六方结构。由于Al-N 键的形成,使 Al 的2p 轨道电子结合能发生2.6eV 的化学位移。薄膜在可见光区域有很高的透射率,在紫外区域300nm 处有很强的吸收峰,在红外600—800cm~(-1)处有个吸收带,通过计算得到了 AIN膜的折射率,禁带宽度和晶格振动力学常数。
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| 关 键 词： | 薄膜 AlN 磁控溅射 |
| 收稿时间： | 1992-06-25 |
| 修稿时间： | 1992-06-25 |
MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE AIN FILMS DEPOSITED BY ION BEAM ENHANCED REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING |
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| WANG Hao,HUANG Rongfang,HONG Ruijiang,WU Jie,WEN Lishi.MICROSTRUCTURE AND OPTICAL PROPERTIES OF THE AIN FILMS DEPOSITED BY ION BEAM ENHANCED REACTIVE MAGNETRON SPUTTERING[J].Chinese Journal of Materials Research,1992,6(3):236-240. |
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| Authors: | WANG Hao HUANG Rongfang HONG Ruijiang WU Jie WEN Lishi |
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| Affiliation: | WANG Hao,HUANG Rongfang,HONG Ruijiang,WU Jie,WEN Lishi(Institute of Metal Research,Academia Sinica) |
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| Abstract: | Microstructure,crystallography,electron structure and optical properties ofaluminum nitride film deposited by ion beam enhanced reactive magnetron sputtering were stu-died.The results show that the microstructure of the film is uniform and the grain size |
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| Keywords: | thin films AIN magnetron sputtering |
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