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纯镁材微弧氧化膜在硫酸铜溶液中的电化学腐蚀行为
引用本文:汪翔,马颖,郭惠霞,董海荣.纯镁材微弧氧化膜在硫酸铜溶液中的电化学腐蚀行为[J].材料保护,2015(12):12-15.
作者姓名:汪翔  马颖  郭惠霞  董海荣
作者单位:兰州理工大学有色金属先进加工与再利用省部共建国家重点实验室,甘肃兰州,730050
基金项目:甘肃省创新研究群体计划
摘    要:研究镁材微弧氧化膜在含Cu2+介质中的腐蚀行为对扩大其使用范围具有十分重要的意义。采用微弧氧化技术对纯镁材进行表面硅酸盐氧化处理,制备了陶瓷膜。采用扫描电镜、X射线衍射、交流阻抗谱等方法分析了微弧氧化膜在0.1 mol/L Cu SO4溶液中的腐蚀形貌、腐蚀产物组成及腐蚀行为;采用极化曲线分析了Cu2+对Cl-腐蚀的影响。结果表明:因为微弧氧化膜中的Mg O与溶液中的H+发生反应,促进了溶液中Cu2+的水解,生成更多Cu(OH)2,并吸附于膜层表面,从而阻止了腐蚀介质向膜基面的进一步扩渗,减弱了腐蚀介质对膜层的腐蚀作用;腐蚀介质Na Cl溶液中加入Cu SO4后,未加剧微弧氧化膜的破坏,反而产生了缓蚀效果。

关 键 词:纯镁  微弧氧化膜  硫酸铜溶液  腐蚀行为
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